BEDRIFTSTEKNOLOGI

IBM demonstrerte 100 GHz karbon-transistor

Åpner for langt raskere elektronikk.

10 cm grafen-wafer laget ved Penn State. Den inneholder mer enn 22 tusen enheter og teststrukturer.
10 cm grafen-wafer laget ved Penn State. Den inneholder mer enn 22 tusen enheter og teststrukturer. Bilde: Penn State Department of Public Information
Harald BrombachHarald BrombachJournalist
5. feb. 2010 - 14:22

IBM skal senere i dag kunngjøre at selskapet har greid å forbedre selskapets egen hastighetsrekord med grafen-baserte transistorer med nesten 300 prosent.

Ifølge amerikansk teknologipresse, blant annet EE Times, har selskapet vist fram en RF-transistor i karbonmateriale grafen som opererte med en hastighet på 100 GHz. Den forrige rekorden var på 26 GHz og ble satt i slutten av 2008.

Grafen-transistorer har vist seg å kunne klokkes langt raskere enn silisium-transistorene som brukes i dagens databrikker. Det skal bare være de raskeste GaAs-transistorene som nå er raskere.

Transistoren som ble demonstrert er laget ut av en 2-tommers grafen-wafer og opererte ved romtemperatur.

Ifølge EE Times var portlengden på grafen-transistoren 240 nanometer, noe som er langt mer enn 32 nanometer-teknologien som blant annet brukes i de nyeste prosessorene fra Intel.

IBM sikter mot å redusere portlengden og forbedre mobiliteten til materialet, slik at transistorene etter hvert skal kunne nå 1 terahertz, noe som er målet for CERA-programmet (Carbon Electronics for RF Applications), som står bak transistoren.

Grafen er et relativt nytt materiale som første gang ble fremstilt i isolert form i 2004. Det har mange interessante egenskaper, men har vist seg å være vanskelig å fremstille i tilstrekkelig store flak.

Men i slutten av januar kunngjorde Pennsylvania State University (Penn State) at forskere ved dets Electro-Optics Center (EOC) har greid å lage grafen-wafere med diameter på 10 cm. Dette er gjort ved prosessere silisiumkarbid-wafere ved høy temperatur i et brennkammer, inntil silisiumen har migrert vekk fra overflaten. Da har en grafen-film med én to to atomers tykkelse blitt liggende igjen på overflaten.

Størrelsen på waferen er begrenset til 10 cm fordi dette er den største diameteren silisumkarbid-wafere er kommersielt tilgjengelig med.

10 cm grafen-wafer laget ved Penn State. Den inneholder mer enn 22 tusen enheter og teststrukturer. <i>Bilde: Penn State Department of Public Information</i>
10 cm grafen-wafer laget ved Penn State. Den inneholder mer enn 22 tusen enheter og teststrukturer. Bilde: Penn State Department of Public Information

Også ved Penn State skal forskerne starte med ytelsestesting av transistorer i nær framtid. Senere skal det jobbes med å forbedre elektronhastigheten i grafenen som er laget på denne måten, slik at den kommer nærmere den teoretiske hastigheten som er på 1/300 av lyshastigheten. Dette er ifølge Penn State omtrent hundre ganger raskere enn elektronhastigheten i silisium.

    Les også:

Del
Kommentarer:
Du kan kommentere under fullt navn eller med kallenavn. Bruk BankID for automatisk oppretting av brukerkonto.
Tekjobb
Se flere jobber
Tre jobbtilbud 10 måneder før masteravslutning!
Les mer
Tre jobbtilbud 10 måneder før masteravslutning!
Tekjobb
Få annonsen din her og nå frem til de beste kandidatene
Lag en bedriftsprofil
En tjeneste fra