IBM slutter seg til konsortium for ny brikketeknologi

IBM har sluttet seg til konsortiet Extreme Ultra Violet LLC som samler krefter for å utforske den ene av to muligheter for å overkomme fysiske begrensninger i dagens brikkeproduksjon.

Dagens metode for brikkeproduksjon forutsetter at et bilde av brikken projiseres på et lag med halvledermateriale. Jo nærmere komponentene kommer, desto flere kan pakkes i det begrensede arealet man har til disposisjon, og desto kraftigere blir prosessoren. Et av problemene den pågående miniatyriseringen støter på, er at under 130 nanometers avstand mellom komponentene, duger det ikke å bruke vanlig lys i projiseringen.

Det ser ut til å finnes to løsninger på dette problemet: Den ene er å projisere bildet med elektroner, i stedet for lyspartikler eller fotoner. Denne teknologien er kjent som Prevail. Den andre er å velge fotoner med høyere frekvens og lavere bølgelengde, altså noe forbi det ultrafiolette. Denne teknologien er kjent som Extreme Ultra Violet, eller EUV.

Det ble i fjor dannet et konsortium, kalt EUV LLC, for å samle krefter til å utforske denne siste muligheten. Konsortiet består av to offentlig finansierte forskningslaboratorier i USA, Lawrence Livermore National Laboratory og Sandia National Laboratories, samt selskaper som Intel, Advanced Micro Devices (AMD), Motorola, Micron Technology og tyske Infineon Technologies.

Intel kunngjorde nylig at selskapet har funnet fram til hvordan EUV skal kunne brukes i brikkeproduksjon. Denne kunngjøringen var opphav til meldingen om at 10 GHz-prosessorer kunne bli en realitet om ikke altfor lenge. Man regner med at EUV vil kunne brukes til å lage 70 nanometers brikker i løpet av 2005. De første betatestene med EUV-teknologi vil starte i 2003.

Det er altså i kjølvannet av denne meldingen IBM nå bestemmer seg for å være med på EUV-teknologien. Samtidig sier selskapet at det vil fortsette å investere i elektron-teknologien, og at det i dag ikke er gitt at den ene vil vinne over den andre.

For å arbeide med elektron-teknologien, altså Prevail, har IBM valgt Nikon som partner. Utviklingen av Prevail ligger noe etter utviklingen av EUV. Man regner med at de aller første forsøkene med Prevail-metoden vil kunne gjennomføres i løpet av 2003.

Prevail vil få langt bedre oppløsning enn EUV, mens EUV vil dekke en gitt areal langt raskere enn Prevail. IBM ser for seg at de to metodene vil kunne kombineres. Dette er EUV-utviklerne enige i, ifølge uttalelser til amerikansk presse.

Til toppen