EE Times skriver i dag at firmaet Hyundai har utviklet en teknikk som gjør det mulig å produsere 0.09 micron kretser i elektronikkbrikker. Hyundai mener også at de skal kunne klare å lage 0.07 micron kretser med denne teknikken. Firmaet har utviklet en argon fluorid (ArF) fotoresistans-teknologi for å oppnå dette.
Ifølge Hyundai har Texas Instruments og Intel visstnok begynt testing med den nye ArF-teknologien etter at sammenslutningen International Sematech hadde verifisert at teknikken faktisk kunne produsere 0.09 micron kretser.
For folk flest vil den nye teknologien føre til raskere, mindre og billigere datamaskiner, noe som kan gi et dytt i riktig retning med tanke på bildatamaskiner og integrerte produkter.
