Samsung kunngjorde i dag at selskapet er ferdig med å utvikle 5 nanometers prosessteknologi for produksjon av mikrobrikker. Teknologien er, i likhet med de nyeste av forgjengerne, basert på EUV-litografi (Extreme Ultraviolet) og FinFET (Fin Field-Effect Transistor).
I første kvartal i år kunne Samsung starte masseproduksjon av blant annet mobilprosessorer med selskapets 7 nanometers prosessteknologi. I dagens pressemelding skriver selskapet at 5 nm-teknologien vil gi plass til 25 prosent mer logikk per areal, samt bidra til enten 20 prosent lavere effektforbruk eller 10 prosent høyere ytelse enn 7 nm-baserte brikker.
Ifølge Samsung skal kundene kunne gjenbruke alle deres brikkedesign fra 7 nanometers prosessen ved en overgang til 5 nanometers prosessteknologi.
Også 6 nanometer
Samsung opplyser at det også er godt i gang med å ta i bruk en 6 nanometers prosessteknologi. Her skal kunder allerede ha mottatt prøveproduksjon av brikker.
Hvor langt tid det vil ta før Samsung kan starte masseproduksjonen med 6 eller 5 nanometers prosessteknologiene, er uklart. EUV-litografien brukes foreløpig bare ved én produksjonslinje i selskapet anlegg i Hwaseong, Sør-Korea. En ny produksjonslinje ventes å være ferdigbygd til høsten. Den skal kunne bidra til økt produksjonskapasitet fra og med 2020.
Samsung ikke først: IBM vil presse 30 milliarder transistorer inn på en fingernegl-stor brikke
