Finmekanikk kan gi halvledere på ti nanometer

Nanoteknologisk forskning forespeiler mekanisk framstilling av mikroprosessorer med hundre ganger flere transistorer per areal enn i dag.

Forskningen foregår ved Princeton NanoStructures Laboratory i den amerikanske delstaten New Jersey. Bildet viser hull med en diameter på 10 nanometer, 40 nanometer fra hverandre, stanset ut gjennom en mekanisk prosess. Laboratoriet har også framstilt transistorer der det aktive elementet er begrenset til ett atom.

På bakgrunn av dette, sier laboratoriets leder, professor Stephen Y. Chou, til BBC at man sannsynligvis vil kunne greie å framstille kompliserte halvledere gjennom en mekanisk prosess der man presser et mønster inn i et halvlederlag, og bruker en laserstråle til å brenne bort overflødig materiale.


Denne prosessen er døpt "nanoimprint lithography", og ble først utviklet ved laboratoriet i 1994.

Prosessen har flere fordeler i forhold til dagens metoder for å framstille mikroprosessorer. I tillegg til at den er i stand til å framstille komponenter hundre ganger så små som ved dagens metoder, vil den kreve langt mindre investeringer i utstyr, og avskaffer behovet for dyre og forurensende kjemikalier.

På hjemmesiden til laboratoriet, forklarer professor Chou at man har framstilt transistorer så små som 6 nanometer. De mest moderne metodene Intel har i produksjon i dag, lager komponenter på 130 nanometer.

På lagringssiden, har laboratoriet framstilt CD-er med en datatetthet på 62 gigabiter per kvdratcentimeter. Det siste er noe mindre enn det IBM får til, se artikkelen Ny prosess kan lagre 150 gigabit per kvadratcm.

Til toppen